真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，包括真空离子蒸发镀膜机、磁控溅镀膜机射、MBE分子束外延镀膜机和PLD激光溅射沉积镀膜机等很多种。真空镀膜机对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，蒸发或溅射出的成膜材料是在一般磁控溅射条件下与待镀工件形成膜的过程。无论是金属、合金、化合物、陶瓷还是有机物，都可以气相沉积各种金属膜和介质膜，不同的材料可以同时气相沉积得到多层膜。
真空镀膜机是目前制作真空条件应用为广泛的真空设备，一般用真空室、真空机组、电气控制柜三大部分组成。真空镀膜设备有哪些特点?蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，形成薄膜。
对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且沉积在基片表面，经历成膜过程，形成薄膜。
真空电镀因其工艺的便利性，可以在红、黄、蓝三基色的基础上调整配方和比例从而形成多种的颜色效果（比如粉色、红色、绿色等），而传统的水电镀则只能制作光铬、哑铬、黑铬、白铬等等少数颜色效果，与真空电镀的颜色丰富程度。相比于铝、铜、铁、不锈钢等金属物体来说，塑料物体的制作工艺具有成本低廉易加工的优势。而经过真空镀膜加工的塑料物体富有金属质感，大大降低了工业及消费电子类产品的制造成本。。
真空镀膜设备由许多不同的零件组成，它们都是经过各种机械加工完成的，例如车铣、刨、磨、镗、焊接等。这样，零件表面不可避免地会沾上许多加工油脂、汗痕、抛光膏、焊剂、金属屑、油垢等污染物。这些污染物在真空中易挥发，影响真空镀膜设备的极限压力和性能稳定性。此外，污染物在大气压下吸附了大量的气体，在真空环境中，这些气体也要被释放出来，构成了限制真空镀膜设备极限压力的因素。为此，零件组装前必须清除掉污染物。